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特集　セラミックスウェットコーティングの新たな潮流

セラミックスウェットコーティングは，水溶液，有機溶液，ナノ粒子を含んだ原料溶液を基板上に塗布し，加熱焼成により薄膜を得るプロセスや電気泳動，電解析出など電気的手法により基材上に薄膜を堆積させるプロセスなどがよく知られています．これらは，真空を必要としない安価なプロセスとして期待されてきました．近年，これらの利点に加えて新たな技術を用いた室温セラミックスコーティング手法の開発や太陽電池，トランジスタ等の新たなデバイス作製など新たな展開が見られています．本特集号ではセラミックスウェットコーティング手法の最近の研究動向・トピックスについて代表的な企業や大学，研究機関から解説していただきます．　（特集担当委員：中島智彦）

■ セラミックウェットコーティングの技術深化

中島　智彦

セラミックスウェットコーティングは近年対象材料やプロセスの多様性が大幅に増し，守備範囲を拡大している．新たな製膜プロセスやそれらによって作製される材料について全体を概観し，期待される今後の展開について紹介する．

■ フラックス概念を導入した環境調和プロセスによる機能性結晶薄膜の創成

手嶋　勝弥・大石　修治・是津　信行

本稿では，フラックス概念を導入した結晶薄膜作製技術であるフラックスコーティング法を紹介する．環境に調和するプロセスであり，さまざまな物質表面に高品質な結晶薄膜を創成できることを特長とする．特に，環境・エネルギー応用を目指した結晶薄膜を例示する．

■ 塗布光照射法を用いた機能性セラミックコーティングとその応用

土屋　哲男・中島　智彦

化学溶液（金属有機化合物，ナノ粒子，ハイブリッド）と光反応を用いた塗布光照射法による機能性セラミックスのフレキシブル膜およびエピタキシャル膜の低温作製とそのメカニズムについて解説する．

■ インクジェット印刷によるオンデマンドPZT厚膜形成技術

秋山　善一

インクジェット印刷でインクジェットヘッドの圧電膜を準備する，というややこしい解説です．

■ スピンコーティングによるチタン酸バリウム系誘電体薄膜の作製

細倉　　匡

スピンコート法を用いて結晶性，配向性，内部応力を制御したチタン酸バリウム系誘電体薄膜の作製および評価について紹介する．

■ ゾル－ゲル成膜と転写によるプラスチック基材上セラミック薄膜の作製

幸塚　広光

プラスチック基板上にセラミック薄膜を作製するためのウェットプロセスの歴史を紹介するとともに，筆者らのグループが開発したゾル－ゲル転写法について説明する．

■ SiCインクの合成と塗布法による半導体用アモルファスSiC薄膜

下田　達也・増田　貴史

液体プロセスによるSiC薄膜の新しい作製方法．シクロペンタシランと炭化水素の反応で得たSiCインクを塗布・焼成するとアモルファスSiC薄膜になる．従来法とは異なり，本手法ではSiリッチで高純度の半導体グレードのa-SiCが作製できる．

■ 電気化学反応を用いた酸化物半導体の形成と太陽電池等の素子への展開

伊﨑　昌伸

水溶液からの電気化学製膜に関わる反応の取り扱いと活用，酸化物半導体形成技術と物性制御，そして太陽電池への展開について．

■ 液相剥離プロセスを活用した水分散MoS₂ナノシートインクの作成と電子デバイス応用

安藤　　淳

近年注目を集めている遷移金属ダイカルコゲナイド層状物質半導体の安価な成膜プロセスの検討を目的として，液相剥離プロセスによる水分散カルコゲナイド層状物質ナノシートインクの作成とその安定性，作成インクを用いたトランジスタの作製事例について解説する．

■ ナノインプリント法によるZnOフォトニック結晶の作製

石河　泰明・浦岡　行治

熱ナノインプリント法は2次元的に配置されるナノ構造を簡便に形成できる手法であるが，サイズ制御性に課題があった．そこで，制御性を改善するgel－ナノインプリント法を用い，ZnOフォトニック結晶の作製を試みたので，その結果を報告する．

■ 溶液法で作る高効率ペロブスカイト太陽電池

小島　陽広・池上　和志

より高効率なペロブスカイト太陽電池の開発への取り組みについて述べる．